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“HCVD”是“Hydride Chemical Vapor Deposition”的缩写,意思是“氢化物化学气相沉积”

“HCVD”是“Hydride Chemical Vapor Deposition”的缩写,意思是“氢化物化学气相沉积”



英语缩略词“HCVD”经常作为“Hydride Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用,中文表示:“氢化物化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词HCVD所代表英文单词,其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外,还有关于缩略词HCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“HCVD”( 氢化物化学气相沉积 )释义

  • 英文缩写词:HCVD
  • 英文单词:Hydride Chemical Vapor Deposition
  • 缩写词中文简要解释:氢化物化学气相沉积
  • 中文拼音:qīng huà wù huà xué qì xiāng chén jī
  • 缩写词流行度:294
  • 缩写词分类:Academic & Science
  • 缩写词领域:Chemistry

以上为Hydride Chemical Vapor Deposition的英文缩略词HCVD的中文解释,以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词HCVD的扩展资料

    上述内容是“Hydride Chemical Vapor Deposition”作为“HCVD”的缩写,解释为“氢化物化学气相沉积”时的信息,以及英语缩略词HCVD所代表的英文单词,其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。

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